熱門(mén)搜索：
代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測(cè)厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測(cè)器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無(wú)塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛(ài)睦威地震儀、HOKUYO北陽(yáng)電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
產(chǎn)品中心
-
CEDAR思達(dá)
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛(ài)視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽(yáng)電機(jī)
- SSD西西蒂
- EMIC 愛(ài)美克
- TOFCO東富科
-
打印機(jī)
- HORIBA崛場(chǎng)
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機(jī)
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機(jī)
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計(jì)
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計(jì)器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學(xué)
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
-
氙氣閃光燈
-
UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
UV的水處理
-
檢測(cè)系統(tǒng)
-
光照射裝置
-
點(diǎn)光源曝光
-
變壓型電源供應(yīng)器
-
超高壓短弧汞燈
-
UV光洗凈
-
UV曝光裝置
-
uv固化裝置
-
紫外可見(jiàn)光光度計(jì)
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測(cè)量?jī)xFE-300 多功能橢偏儀 橢偏儀系統(tǒng) 橢圓偏振光測(cè)量?jī)x
詳情介紹：
產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
- 支持從薄膜到厚膜的廣泛薄膜厚度
- 使用反射光譜進(jìn)行薄膜厚度分析
- 緊湊、低成本、非接觸式、無(wú)損、高精度測(cè)量
- 易于設(shè)置條件和測(cè)量操作！ 任何人都可以輕松測(cè)量薄膜厚度
- 通過(guò)峰值巴雷法、頻率分析法、非線性*小二乘法、優(yōu)化法等多種膜厚度測(cè)量
- 非線性*小二乘法的厚度分析算法允許光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率、k：消光計(jì)數(shù)）
測(cè)量項(xiàng)目
- **反射率測(cè)量
- 薄膜厚度分析（10層）
- 光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）
測(cè)量對(duì)象
-
功能膜、塑料
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀納米線）、緩速膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護(hù)膜、硬涂層、防指紋劑等。 -
半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire 等。 -
表面處理
DLC 涂層、防銹劑、防霧劑等 -
光學(xué)材料
過(guò)濾器、AR 涂層等 -
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)膜、密封劑）等 -
其他
硬盤(pán)、磁帶、建筑材料等
原則
測(cè)量原理
Otsuka 電子采用光干涉法和內(nèi)部制造的高精度分光光度計(jì)，可實(shí)現(xiàn)非接觸式、無(wú)損和高速高精度薄膜厚度測(cè)量。 光干涉法是一種利用光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來(lái)確定光學(xué)厚度的方法，如圖2所示。該光學(xué)系統(tǒng)使用光譜光度計(jì)獲得光學(xué)厚度。 以涂覆在金屬基板上的膜為例，從目標(biāo)樣品上方入射的光在膜表面反射（R1）。 此外，通過(guò)薄膜（R2）的光在基板（金屬）或膜界面反射。 測(cè)量由光路差引起的相位偏移引起的光干涉現(xiàn)象，并從獲得的反射光譜和折射率計(jì)算薄膜厚度的方法稱(chēng)為光干涉法。 有四種分析方法：峰巴雷法、頻率分析法、非線性*小二乘法和優(yōu)化法。
規(guī)格
手勢(shì)
| 測(cè)量波長(zhǎng)范圍 | 300～800nm | |
|
測(cè)量膜厚度范圍 （SiO2轉(zhuǎn)換） |
3nm～35μm | |
| 點(diǎn)直徑 | φ1.2mm | |
| 樣本大小 | φ200×5(H)mm | |
| 測(cè)量時(shí)間 | 0.1~10s以內(nèi) | |
| 電源 | AC100V±10% 300VA | |
| 尺寸、重量 | 280（W)×570（D)×350（H）mm、24kg | |
| 其他 | 參考板，食譜創(chuàng)建服務(wù) | |
軟件屏幕
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司代理、直營(yíng)各日本品牌工業(yè)產(chǎn)品，聯(lián)系人：張小姐
聯(lián)系電話：15902189399
江蘇地區(qū)代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測(cè)量?jī)xFE-300
上海地區(qū)代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測(cè)量?jī)xFE-300
浙江地區(qū)代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測(cè)量?jī)xFE-300
產(chǎn)品留言
標(biāo)題
聯(lián)系人
聯(lián)系電話
內(nèi)容
注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發(fā)送信息!
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
