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SLS-6500HL OTSUKA大冢- 靜態光散射光度計 可以測量使用靜光散射法的**分子量、慣性半徑、**膽量系數。 OTSUKA大冢- 靜態光散射光度計SLS-6500HLOTSUKA大冢- 靜態光散射光度計SLS-6500HLOTSUKA大冢- 靜態光散射光度計SLS-6500HL
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FPAR-1000AS OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑 FPAR和自動取景器的組合中，關于50檢體的試料，可以進行粒子直徑的自動測量。 樣品量為1ml，可以使用廉價的電筒進行測量。 OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-100
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FPAR-1000 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統 從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量 *適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
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FDLS-3000 OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計 根據固體激光和高靈敏度檢測器（冷卻型光電子倍增管），可以測量0.5nm～5000 nm的粒子直徑和粒子直徑分布（粒徑·粒徑分布）。OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000
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DLS-6500series OTSUKA大冢- 動態光散射光度計 可測量使用動態光散射法的粒子直徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。 OTSUKA大冢- 動態光散射光度計DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 動態光散射光度計DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 動態光散射光度計DLS-6500series
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ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統ELSZ-2000S
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nanoSAQLA OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLA
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DLS-8000series OTSUKA大冢- 動態光散射光度計 用動態光散射法的粒子直徑·粒子直徑分布（粒徑·粒徑分布）測量和使用靜光散射法的優良分子量·慣性半徑·**膽量系數的測量。OTSUKA大冢- 動態光散射光度計DLS-8000seriesOTSUKA大冢- 動態光散射光度計DLS-8000series
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ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 電位測量系統 OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統ELSZ-2000S
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HS-1000 OTSUKA大冢-高靈敏度分光放射輝度計 從低亮度到高亮度可以高速·高精度的測量的分光輻射亮度計。 使用電子冷卻型的線性陣列傳感器，通過大冢電子獨自的分光光學設計和信號處理電路的寬亮度范圍和波長域，實現了低噪聲的高精度的測量。OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度計HS-1000OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度計HS-1000OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度
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MCPD-9800/6800 OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800
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它是一種延遲測量設備，支持所有類型的薄膜，例如用于 OLED 的偏光板、層壓延遲膜和帶有 IPS 液晶延遲膜的偏光板。 實現與超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度測量。 可以“無損、無剝離”地測量薄膜的層壓狀態。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，支持因樣品重新定位而導致的錯位，可輕松實現高精度測量。
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它是一種可以在薄膜生產現場在線測量薄膜厚度的設備。 通過將開創的光譜干涉技術與新開發的高精度膜厚計算處理技術相結合，可以以至少0.01的測量間隔測量寬度為500mm（使用一臺時）的膜厚秒。
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日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3
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日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2
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日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1
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FE-3700 OTSUKA大冢-膜厚測量系統 OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-3700OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-3700OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-3700
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RH50 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統 對應微LED等微小樣品的配光測定系統RH50.。 與光學模擬軟件的聯合是可能的，可以簡單地高速取得2π空間全方位的光線。50×50mm尺寸以上請看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統RH50OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統RH50
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SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統 *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統SF-3Rθ
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SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3Rθ
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SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAF
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SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AA
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GS-300 OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統 搭載模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系統。OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300
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SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200
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SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300
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SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300
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SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BB
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AT-1500 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500
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AT-5000 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000
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OTSUKA大冢-線掃描膜厚計 在線薄膜生產現場能夠對薄膜的膜厚進行全幅、全長測量的裝置。 通過在獨自的分光干涉法中組合新開發的高精度膜厚演算處理技術，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進行500mm寬(1臺使用時)的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計OTSUKA大冢-線掃描膜厚計
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FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現測量角度的自動可變機構，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
